純ガス中不純物分析装置
純ガス中不純物分析装置
概要
純ガス(He,H2,Ar等)に含まれる不純物の濃度をガスクロマトグラフにより測定する装置です。
半導体の製造に使用される純ガスは、高純度なものが要求されます。そのため、高純度ガスに含まれる不純物の濃度管理は大変重要です。
純ガス中に含まれる不純物測定の場合、通常のガスクロマトグラフでは主成分が不純物測定の妨害をすることが多く、また成分によっては検出器にダメージを与えてしまう場合もあるため、いかに主成分の影響を受けずに不純物測定を行うかがポイントです。
特長
- 高感度検出器(PDD*1、FID*2)により極低濃度成分の高感度分析が可能
- 自動バルブと複数のカラムの組み合わせで、主成分の影響を最小限に抑えながら、再現性の高い測定が可能
- 測定結果のテキストファイル出力が可能
- 複数ラインの順次連続分析が可能(オプション)
- 外部からの信号で分析の開始が可能(オプション)
- 測定結果のRS-232C通信やアナログ信号による出力が可能(オプション)
*1:パルス放電型検出
*2:水素炎イオン化検出器
主な用途例
- 純ガス製造工場での原料および製品ガスの純度管理
- 半導体工場での半導体製造ガスまたは前処理用ガスの純度管理など
その他の不純物分析装置
紹介した純ガス以外にも様々な分析装置を製造しています。
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実績例
- 一酸化炭素中不純物分析装置
- 二酸化炭素中不純物分析装置
- アンモニアガス中不純物分析装置
- ジクロロシラン中不純物分析装置
- 塩素中不純物分析装置
- 炭化水素中不純物分析装置